专利名称：反射膜或半透反射膜用的薄膜及溅射靶材以及光记
录介质
专利类型：发明专利发明人：小幡智和,柳原浩申请号：CN200680054809.6申请日：20061117公开号：CN101461002A公开日：20090617
摘要：本发明是在由银或银合金形成的基质中分散由镝、钆、铒、镨、钐、镧、钇的氮化物、氧化物、复合氧化物、氮氧化物、碳化物、硫化物、氯化物、硅化物、氟化物、硼化物、氢化物、磷化物、硒化物、碲化物中的至少一种形成的化合物相而成的反射膜或半透反射膜用的薄膜。除镝等之外，该薄膜还可以包含银和/或镓、钯、铜的氮化物、氧化物、复合氧化物、氮氧化物、碳化物、硫化物、氯化物、硅化物、氟化物、硼化物、氢化物、磷化物、硒化物、碲化物中的至少一种。本发明的薄膜即使长期使用反射率的下降也少，可以延长光记录介质、显示器等采用反射膜的各种装置的寿命。此外，也可以用于光记录介质中所采用的半反半透膜。
申请人：田中贵金属工业株式会社
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：上海专利商标事务所有限公司
代理人：冯雅
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容