田竞;英崇夫
【期刊名称】《宇航材料工艺》 【年(卷),期】1998(028)005
【摘 要】利用阴极溅射方法在铝合金表面沉积氮化铝薄膜，利用Ｘ射线研究了沉积过程中气体压力的变化对氮化铝薄膜结晶的择优取向及薄膜内应力的影响。结果表明：在较低压力沉积的氮化铝薄膜有良好的择优取向性；氮化铝薄膜残余应力为压应力，且随气体压力增加而逐渐变化。 【总页数】3页(P41-43) 【作 者】田竞;英崇夫
【作者单位】哈尔滨工业大学;德岛大学工学部 【正文语种】中 文 【中图分类】TG174.442 【相关文献】
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德
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