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采用含氧前驱体化学气相沉积制备稀土硅酸盐陶瓷的方法[发明专利]

来源：哗拓教育

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：采用含氧前驱体化学气相沉积制备稀土硅酸盐陶瓷

的方法

专利类型：发明专利

发明人：刘永胜,贺芳,董宁,王晶,高雨晴,宋超坤申请号：CN201910678637.9申请日：20190725公开号：CN110407583A公开日：20191105

摘要：本发明涉及一种采用含氧前驱体化学气相沉积制备稀土硅酸盐陶瓷的方法，采用稀土氧化物作为反应物，以CHSiCl作为先驱体、CO作为氧源，氢气作为载气和稀释气体、氩气作为保护气体，经过化学气相沉积，得到稀土硅酸盐陶瓷。可用于制备稀土硅酸盐陶瓷粉体，也可以用于制备稀土硅酸盐陶瓷涂层，以及稀土硅酸盐陶瓷改性结构陶瓷及陶瓷基复合材料。本发明稀土硅酸盐陶瓷的制备温度低，解决了稀土硅酸盐陶瓷制备温度过高的问题，制备过程操作简单，可重复性强，不会对材料形状造成影响，可工业化生产，为化学气相沉积制备稀土硅酸盐陶瓷以及稀土硅酸盐改性陶瓷基复合材料提供了新方法。

申请人：西北工业大学

地址：710072 陕西省西安市友谊西路127号

国籍：CN

代理机构：西北工业大学专利中心

代理人：王鲜凯

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