专利名称：一种多通道集成滤光片的光隔离结构专利类型：实用新型专利发明人：周东平
申请号：CN201721838903.2申请日：20171226公开号：CN207636809U公开日：20180720
摘要：本实用新型揭示了一种多通道集成滤光片的光隔离结构，包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层，以阻止光线通过，黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域；还包括消光层，消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成。本实用新型通过真空镀膜工艺在基片表面上设置黑铬金属膜层和由四层氧化物光学薄膜组成的消光层，利用黑铬金属膜层满足光学透过性能低的要求，同时，利用消光层消除黑铬金属膜层表面的反射光，可有效实现多通道集成滤光片各通道之间的隔离，保障多通道集成滤光片的工作性能。
申请人：苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
地址：215000 江苏省苏州市工业园区娄阳路6号中新科技工业坊三期2-1-B、2-2-B
国籍：CN
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