专利名称：铜靶材表面的处理方法专利类型：发明专利
发明人：姚力军,潘杰,相原俊夫,大岩一彦,王学泽,李健成申请号：CN201510417001.0申请日：20150715公开号：CN106346344A公开日：20170125
摘要：本发明提供一种铜靶材表面的处理方法，其中所述方法包括：提供铜靶材，所述铜靶材包括铜靶材镜面；对铜靶材镜面进行机械加工；对机械加工后的铜靶材镜面进行抛光处理，所述抛光处理包括至少两次抛光工艺。通过在机械加工后采用至少两次抛光工艺对所述铜靶材镜面进行表面处理，所述抛光工艺去除机械加工在铜靶材镜面表面形成的划伤，还去除机械加工残留液体在所述铜靶材镜面形成的氧化层，从而使铜靶材镜面的表面色泽度和粗糙度更好，进而降低了铜靶材的返修率和报废率。
申请人：宁波江丰电子材料股份有限公司
地址：315400 浙江省宁波市余姚市名邦科技工业园区安山路198号
国籍：CN
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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