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一种去除AZ光刻胶的去胶液

来源：哗拓教育

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201611206000.2 （22）申请日 2016.12.23

（71）申请人昆山艾森半导体材料有限公司

地址 215300 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路17号

（10）申请公布号 CN106773562A

（43）申请公布日 2017.05.31

（72）发明人杜冰;顾群艳;梁豹;鲍杰;赵建龙;张兵;朱坤;向文胜（74）专利代理机构北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人汤东凤

（51）Int.CI

G03F7/42;

权利要求说明书说明书幅图

（）发明名称

一种去除AZ光刻胶的去胶液

（57）摘要

本发明属于半导体加工技术领域，涉及一

种去除AZ光刻胶的去胶液，其配方包括：10‑50wt％有机酯，10‑50wt％有机醇，补足余量的极性有机溶剂；其中有机酯为一元酸酯、二元酸酯或内酯中的一种，有机醇为C2～3醇类，极性有机溶剂为二甲亚砜、环丁砜、二甲基砜、N,N‑二甲基甲酰胺、N,N‑二甲基乙酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、碳酸丙二酯、1,3‑二甲基‑2‑咪唑啉酮中的一

种。本发明去胶液去胶速度快，使用温度相对较低，不伤硅、氧化硅、金属、钝化等各种底材，水溶性，容易清洗。

法律状态

法律状态公告日

2017-05-31 2017-05-31 2017-06-23 2017-06-23 2019-03-01

法律状态信息

公开公开

实质审查的生效实质审查的生效著录事项变更

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权利要求说明书

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说明书

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